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介绍了将商用透射电镜JEM-2000EX改造为高能电子束曝光系统的研制工作,在现阶段研制工作的基础上进行了曝光实验.结果表明,利用此高能电子束曝光系统可以制备出纳米线条,并且能够制备出具有高深宽比的微细结构,从而为微小器件的加工提供了新的方法.
高能电子束曝光技术研究
【摘 要】
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介绍了将商用透射电镜JEM-2000EX改造为高能电子束曝光系统的研制工作,在现阶段研制工作的基础上进行了曝光实验.结果表明,利用此高能电子束曝光系统可以制备出纳米线条,并且
【机 构】
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中国科学院电工研究所
【出 处】
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微细加工技术
【发表日期】
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2004年4期
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