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采用室温磁控溅射技术在AZ91D镁合金表面制备了CM／SiC双层薄膜（SiC为中间层），研究了界面结合情况、薄膜的力学和摩擦磨损性能。结果表明：CNx/Sic双层薄膜表面颗粒结合紧密，中间层SiC与基体和CM层界面的结合很好，均发生了呈梯度的元素扩散，膜基附着力在12N以上；CM薄膜具有低的纳米硬度（3．85GPa）、低的弹性模量（30．46GPa），但却具有高的硬度与弹性模量比值（0．126）以及好的摩擦磨损性能；在以氮化硅（Si3N4）球为对偶件的室温干摩擦条件下，其摩擦因数约为0．19，磨损率为4．