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光电传感和精密刻划技术 ,是开发精密数显转台的主要技术基础。本文详细介绍基本原理、结构要求、功能特点、工艺试验和精度测试等。样机系列表明 ,其精度和性能基本达到和部分指标超过 (国家 )部颁一级精度的标准。
精密数显转台研制
【摘 要】
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光电传感和精密刻划技术 ,是开发精密数显转台的主要技术基础。本文详细介绍基本原理、结构要求、功能特点、工艺试验和精度测试等。样机系列表明 ,其精度和性能基本达到和部
【机 构】
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中国科学院光电技术研究所!成都,610209
【出 处】
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光电工程
【发表日期】
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1996年S1期
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