【摘 要】
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采用对比实验，研究了腐蚀工艺对低压电子铝箔耐蚀性的影响。当腐蚀溶液中w（HCl）为15％-25％、w（H2SO4）为10％-20％，温度为85℃，电流密度为0．40A／cm^2，腐蚀时间为3min时，铝箔腐蚀效果最佳，其耐蚀性
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采用对比实验，研究了腐蚀工艺对低压电子铝箔耐蚀性的影响。当腐蚀溶液中w（HCl）为15％-25％、w（H2SO4）为10％-20％，温度为85℃，电流密度为0．40A／cm^2，腐蚀时间为3min时，铝箔腐蚀效果最佳，其耐蚀性数值（腐蚀前后质量差值与原光箔质量之比）为0．70％～0．83％。该工艺可迅速准确地判断低压电子铝箔的耐蚀性，平均每个样品所花时间仅为26min。
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