【摘 要】
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采用磁控溅射法，以不同的B靶功率（分别为24，30，60，90和120 W），在单晶硅（100）和不锈钢基底上制备一系列不同B含量的ZrBN复合膜，利用扫描电镜、能谱仪、X射线衍射仪、纳米压痕仪（CSM）和摩擦
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采用磁控溅射法，以不同的B靶功率（分别为24，30，60，90和120 W），在单晶硅（100）和不锈钢基底上制备一系列不同B含量的ZrBN复合膜，利用扫描电镜、能谱仪、X射线衍射仪、纳米压痕仪（CSM）和摩擦磨损试验机研究B靶功率对ZrBN复合膜的微结构、力学性能、以及室温和高温摩擦性能的影响。结果表明：当B靶功率低于30 W时，复合膜呈fcc ZrBN结构；当B靶功率高于30 W时，复合膜为fcc ZrBN和hcp ZrB2双相结构。当B靶功率为24 W时，复合膜的硬度和室温摩擦因数分别为29.3 G
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