【摘 要】
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采用磁控溅射法,以不同的B靶功率(分别为24,30,60,90和120 W),在单晶硅(100)和不锈钢基底上制备一系列不同B含量的ZrBN复合膜,利用扫描电镜、能谱仪、X射线衍射仪、纳米压痕仪(CSM)和摩擦
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采用磁控溅射法,以不同的B靶功率(分别为24,30,60,90和120 W),在单晶硅(100)和不锈钢基底上制备一系列不同B含量的ZrBN复合膜,利用扫描电镜、能谱仪、X射线衍射仪、纳米压痕仪(CSM)和摩擦磨损试验机研究B靶功率对ZrBN复合膜的微结构、力学性能、以及室温和高温摩擦性能的影响。结果表明:当B靶功率低于30 W时,复合膜呈fcc ZrBN结构;当B靶功率高于30 W时,复合膜为fcc ZrBN和hcp ZrB2双相结构。当B靶功率为24 W时,复合膜的硬度和室温摩擦因数分别为29.3 G
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