【摘 要】
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采用电弧离子镀技术在GH-4169高温合金基体上沉积氧化铬薄膜,并对薄膜进行了不同温度的退火处理,系统研究了不同退火温度(500、600、700和800℃)对薄膜形貌、薄膜结构、薄膜
【机 构】
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中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室,中国科学院研究生院
【基金项目】
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国家自然科学基金项目(51505461);国家973项目(2013CB632300);中国科学院资助~~
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采用电弧离子镀技术在GH-4169高温合金基体上沉积氧化铬薄膜,并对薄膜进行了不同温度的退火处理,系统研究了不同退火温度(500、600、700和800℃)对薄膜形貌、薄膜结构、薄膜力学性能及薄膜摩擦学性能的影响.结果表明:随退火温度升高,薄膜表面缺陷减少,氧化铬晶化趋于完善,薄膜硬度下降.高温摩擦学性能方面薄膜经500和600℃退火后,在环境温度从室温到800℃宽温域范围内摩擦系数较退火前均有所增加;经800℃退火后的薄膜在环境温度为400~600℃时的摩擦系数均明显下降,但室温摩擦系数明显升高,宽温域
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