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采用多层光刻工艺结合氩离子铣的混合刻蚀方法，刻蚀高Ｔｃ超导ＹＢａＣｕＯ／ＺｒＯ２（１００）薄膜图形，取得了较好的结果，在进行氩离子铣的工艺步骤中，使用普通氩离子铣设备，但采取了一定的措施－使被刻样吕在刻蚀台座上可移动。
实现多层混合刻蚀薄膜大面积均匀的方法浅探
【摘 要】
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采用多层光刻工艺结合氩离子铣的混合刻蚀方法，刻蚀高Ｔｃ超导ＹＢａＣｕＯ／ＺｒＯ２（１００）薄膜图形，取得了较好的结果，在进行氩离子铣的工艺步骤中，使用普通氩离子铣设备，但采取了一定的措施－使被刻样吕在刻蚀台座
【机 构】
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东南大学电子工程系
【出 处】
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固体电子学研究与进展
【发表日期】
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1996年3期
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