磁控溅射制备PST薄膜的介电与铁电性能

来源 :真空科学与技术学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:edisonckw
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(Pb1-xSrx)TiO3系铁电材料是一种互溶性较好的钙钛矿材料,本文采用磁控溅射法,在Si基底上成功地制备了结构致密、性能优良的PST铁电薄膜,其制备工艺可与Si微电子技术兼容。性能测试表明,其介电常数可达900,接近10^3量级,介电损耗较低,约在0.12-0.21之间(-10℃至60℃)。铁电性能也较好,其饱和极化强度可接近10μC/cm^2,矫顽场强约21kV/cm。
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