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Solid state interfacial reactions in electrodeposited Cu/Sn couples

来源 :中国有色金属学会会刊：英文版 | 被引量 : 0次 | 上传用户：pandanemo

【摘 要】

：

Cu/Sn couples, prepared by sequentially electroplating Cu and Sn layers on metallized Si wafers, were employed to study the microstructures, phases and the grow

【作 者】

：

汤文明 D. G. IVEY 

【机 构】

：

SchoolofMaterialsScienceandEngineering,DepartmentofChemicalandMaterialsEngineering

【出 处】

：

中国有色金属学会会刊：英文版

【发表日期】

：

2010年1期

【关键词】

：

电镀铜 固态反应 锡 退火温度 生长动力学 种族 金属硅 微结构 Cu/Sn couple electrodeposition solid state reac 

【基金项目】

：

the Natural Sciences and Engineering Research Council (NSERC) of Canada and Micralyne, Inc. for providing research funding and Si substrates for electroplating (Micralyne)

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Cu/Sn couples, prepared by sequentially electroplating Cu and Sn layers on metallized Si wafers, were employed to study the microstructures, phases and the growth kinetics of Cu-Sn intermediate phases, when electroplated Cu/Sn couples were aged at room te

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