铬膜相关论文
采用直流磁控溅射法制作了用于衬底台阶刻蚀的铬膜。为了控制衬底台阶的质量，实验研究了铬膜沉积条件与耐刻蚀性和耐腐蚀性间的关系......
研究了铬膜和铌膜的复合对锆合金基体上制备的直流磁控溅射薄膜附着性的影响。使用扫描电镜(SEM)观察了膜层界面,用原子力显微镜(A......
采用直流磁控溅射镀膜法在石英玻璃衬底制备铬膜,利用SEM和EDS对铬膜层的针孔及周围分别进行了形貌和元素表征,研究了膜层针孔缺陷......
简述了真空紫外ＭＣＰ－ＰＭＴ选择碘化铯做为阴极的依据，介绍了铬膜的透光性及碘化铯阴极的制作与阴极辐射灵敏度的测量，研制出整管，由此得出了相关......
研究了铬膜和铌膜的复合对锆合金基体上制备的直流磁控溅射薄膜附着性的影响.使用扫描电镜(SEM)观察了膜层界面,用原子力显微镜(AF......
本文报道采用XPS,紫外可见和红外漫反射光谱等表面分析技术,对由方波脉冲电流迭加直流从草酸镀液体系电沉积形成的粉红色和浅绿色......
本文对电沉积铬形成的彩虹色铬膜进行了XPS、UPS分析,并用电化学方法研究其形成过程,根据彩虹色铬膜的成分分布。该膜可分为表面层......
本文叙述等离子刻蚀铬膜的基本原理,用空气携带四氯化碳为气源,在高频电场作用下产生等离子体.实验证明,该等离子体能有效地刻蚀铬......
对六价镀铬的工艺进行研究,在45℃、电流密度为15A·dm^-2时电沉积出光亮平整、无缺陷的铬膜。在此基础上在纯铁基体上电沉积......
采用喷丸处理及溶胶-凝胶工艺涂覆ZrO2/Al2O3叠层对Cr5Mo合金进行了表面处理,研究了不同处理的合金试样在600 ℃空气中的高温氧化......
文章给出了三价铬电镀的镀液配方和操作条件;着重研究了电流密度、电镀时间和溶液温度及酸度对镀层厚度的影响;对电镀过程中溶液温......
Thermal performance of sputtered Cu films containing insoluble Zr and Cr for advanced barrierless Cu
包含不可溶解的物质(Zr 和 Cr ) 的纯 Cu 电影和 Cu 合金电影在 Si (100 ) 底层上被扔，面对界面的本国的低值氧化物(SiOx ) ，由磁控......
镁及镁合金具有比强度、比刚度高；弹性模量低、减震性好；加工切削性能优良；不易发生尺寸变化；磁屏蔽性好；原料丰富以及可回收等一系列优......
为了利用铬膜改善锆的抗腐蚀性,研究了退火对Zr-2基体上制备的直流磁控溅射铬膜附着性的影响。使用扫描电镜(SEM)观察了界面形貌及......
通过对铬膜附着力及表面形貌的研究得出电子束蒸发制备铬膜适宜的工艺参数为本底真空3.0×10-3Pa,电压6KV,电子束流60mA,烘烤......
给出了单层金属薄膜分光镜透（反）射率的计算方法，讨论了铬膜分光镜透（反）射率与光波波长、铬膜厚度、入射角度及入射方向之间的关系，同时......
薄膜材料在工业及高科技领域的应用越来越广，对各种薄膜材料的研究也非常之多，但关于铬／锆薄膜体系的研究却很少有报道。基于某工程应......
为了研究镀铬对光刻胶光栅掩模槽形的影响，分析了铬膜反射引起的沿垂直光刻胶表面的驻波效应。分析表明驻波效应的对比度为0．28，不能......
讨论了采用直流磁控溅射法在锆合金表面镀铬时,基体的粗糙度、退火工艺、薄膜厚度及溅射前的基体离子轰击对铬薄膜附着性的影响。......
