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基于直角坐标激光直接写入系统和极坐标激光直接写入系统,分别给出了曝光量分布的计算公式,讨论了曝光量分布和光强分布之间的差别。用曝光量分布预测了显影后抗蚀剂中线条的面形。实验结果与理论分析相吻合。
激光直接写入系统曝光量分布分析
【摘 要】
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基于直角坐标激光直接写入系统和极坐标激光直接写入系统,分别给出了曝光量分布的计算公式,讨论了曝光量分布和光强分布之间的差别。用曝光量分布预测了显影后抗蚀剂中线条的面形。实验结果与理论分析相吻合。
【机 构】
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中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室,吉林长春130022
【出 处】
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中国激光
【发表日期】
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2003年30期
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