近晶型聚硅氧烷侧链液晶的合成与表征

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以烯丙基溴、对羟基苯甲酸、对氰基苯酚为主要原料合成了液晶基元对-烯丙氧基苯甲酸对-羟基苯氰酯,通过硅氢化加成反应将其接枝到聚甲基氢硅氧烷主链上,合成了一种新型的聚硅氧烷侧链液晶。通过傅里叶变换红外光谱仪(FT-IR)、氢核磁共振仪(1H-NMR)、差示扫描量热仪(DSC)、热台偏光显微镜(POM)和X-射线衍射仪(XRD)对产物进行结构表征和液晶行为分析。硅氢加成反应近于完全,证实了液晶基元和液晶聚合物液晶性的存在;液晶聚合物的介晶区间为101.45°C,大于液晶基元的介晶区间(78.3
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