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采用多靶反应磁控溅射法制备了ＴｉＮ／ＡｌＮ纳米多层膜，并通过ＸＲＤ、ＴＥＭ和显微硬度计对多层膜的调制结构和力学性能进行了研究。结果表明，反应磁控溅射法制得的纳米多层膜调制界面平直清晰；薄膜的硬度随其调制周期∧的减小而单调增加，硬度在∧＝２ｎｍ时达到最大值ＨＫ３２．９３ＧＰａ。
TiN／AlN纳米多层膜的制备及力学性能
【摘 要】
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采用多靶反应磁控溅射法制备了ＴｉＮ／ＡｌＮ纳米多层膜，并通过ＸＲＤ、ＴＥＭ和显微硬度计对多层膜的调制结构和力学性能进行了研究。结果表明，反应磁控溅射法制得的纳米多层膜调制界面平直清晰；薄膜的硬
【机 构】
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上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室,中国科学院上海冶金研究所
【出 处】
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上海交通大学学报
【发表日期】
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1999年2期
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