【摘 要】
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磁控溅射镀膜技术以高速、低温两大特点在真空镀膜工业中得到广泛应用,而靶材的异常放电会导致溅射过程不稳定,严重影响膜层质量。针对大型真空镀膜设备,从直流磁控溅射电源
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磁控溅射镀膜技术以高速、低温两大特点在真空镀膜工业中得到广泛应用,而靶材的异常放电会导致溅射过程不稳定,严重影响膜层质量。针对大型真空镀膜设备,从直流磁控溅射电源的等离子体负载特性出发,设计并研制了一款数字化的直流磁控溅射电源。该电源采用TMS320LF2407型DSP作为主控制器。详细介绍了主电路的拓扑结构、主要参数的计算、控制电路的软、硬件具体实现方案。系统测试和运行结果表明,电源的稳定性、可靠性及可调范围均可满足磁控溅射镀膜的要求。
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