【摘 要】
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用同步辐射的真空紫外(VUV)和紫外(UV)作为激发源研究了Pr^3+(0．1％)掺杂的LaF3纳米微晶，氟氧化物玻璃陶瓷的4f5d能级光谱性质。样品中存在两种不同的Pr^3+-LaF3微晶中的Pr^3+最
【机 构】
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北京交通大学光电子技术研究所,中国科学院高能物理研究所同步辐射实验室,中国科学技术大学国家同步辐射实验室,DepartmentofPhysicsandAstronomy,ComingInc.
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用同步辐射的真空紫外(VUV)和紫外(UV)作为激发源研究了Pr^3+(0．1％)掺杂的LaF3纳米微晶，氟氧化物玻璃陶瓷的4f5d能级光谱性质。样品中存在两种不同的Pr^3+-LaF3微晶中的Pr^3+最低的4f5d能级在^1S0能级之上，玻璃中的却在^S0能级之下，通过VUV和UV激发光谱得出这两种Pr^3+最低的4f5d能级的位置。当用181nm光激发样品时，在发射光谱中同时观察到了微晶中Pr^3+4f^2→4f^2的窄谱带发射和玻璃中4f5d→4f^2的宽谱带发射。在20K时观察到了LaF3纳米微
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