【摘 要】
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文章研究了在实际生产过程中,真空磁控溅射设备下制备ITO膜时,高温成膜过程中环境中的氧气分压对ITO薄膜的光电特性的影响。P-ITO指的是结晶状态的ITO膜,在高温环境下ITO膜成
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文章研究了在实际生产过程中,真空磁控溅射设备下制备ITO膜时,高温成膜过程中环境中的氧气分压对ITO薄膜的光电特性的影响。P-ITO指的是结晶状态的ITO膜,在高温环境下ITO膜成膜工艺,也就是常说的高温成膜工艺,在成膜过程中结晶,通过调整成膜过程中O2的分压制备所需的ITO膜。
The influence of oxygen partial pressure on the photoelectric properties of ITO thin films during the process of high temperature film formation was investigated in the actual production process. P-ITO refers to a crystalline ITO film. Under the high temperature environment, the ITO film forming process, that is, the high temperature film forming process, often crystallizes during the film forming process and is prepared by adjusting the partial pressure of O2 in the film forming process The required ITO film.
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