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利用中频脉冲磁控溅射方法，以掺杂质量2％～的Zn（纯度99．99％）金属材料为靶材制备平面透明导电ZnO：A1（ZAO）薄膜，利用湿法腐蚀方法，将平面ZAO薄膜在一定浓度的稀盐酸中浸泡一定时间，使其形成表面凹凸起伏的绒面结构。研究了溅射功率、工作压力、腐蚀时间以及溶液浓度对绒面ZAO薄膜表面形貌的影响，并对腐蚀前后薄膜的电阻变化进行了分析。结果表明：低功率、低气压、腐蚀时间20s、溶液浓度0．5％的条件下制备的绒面ZAO薄膜表面形貌较好，在硅薄膜太阳电池中具有潜在应用前景。