【摘 要】
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考察了单晶硅在室温和低接触应力条件下的摩擦磨损行为随速度的变化情况.结果表明,单晶硅的摩擦系数和磨损率随滑动速度的提高而呈现降低趋势;单晶硅在低速、短滑动时间下的
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考察了单晶硅在室温和低接触应力条件下的摩擦磨损行为随速度的变化情况.结果表明,单晶硅的摩擦系数和磨损率随滑动速度的提高而呈现降低趋势;单晶硅在低速、短滑动时间下的磨损表面形貌特征以微断裂为主,并伴有一定程度的塑性变形;随着滑动时间的延长,塑性变形特征逐渐减弱,塑性变形同具有金属延性特征的β-Sn(简称Si-II)相密切相关,Si-II在滑动过程中可转变为体心立方结构(简称Si-III)、斜方六面体结构(简称Si-XII)和非晶硅相;在高速条件下,单晶硅磨损表面呈现微断裂和较弱的塑性变形特征;尽管通过Ram
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