论文部分内容阅读
电子回旋共振微波等离子体化学气相沉积（ECRPCVD）应用于制备a-Si:H薄膜，其沉积速率大于射频等离子体化学气相沉积（RFPCVD），而且在基体不加温情况下也能获得比较满意的特性，根据红外吸收谱分析，并经伸缩振动模吸收带的积分计算，得出样品的含氢量为20－30％，光学带隙E0为1．80eV左右，暗电导率小于10^10s/cm，倘若基体适当加温，a-Si:H膜的性能将更为优良。