a-Si:H膜相关论文
电子回旋共振微波等离子体化学气相沉积(ECRPCVD)应用于制备a-Si:H薄膜,其沉积速率大于射频等离子体化学气相沉积(RFPCVD),而且在基体不......
实验研究表明,a-Si:H薄膜的光致发光谱随沉积条件,内应力的变化十分敏感。当射频功率、偏压及内应力增大时,发光峰值能量向低能方......
将描述电极性质的结区电场选作n~+-i-n~+或(n~+-n-n~+)结构a—Si:H器件电流流动微分方程组的另一对边界条件,应用Runge-Kutta法由......
【正】 利用a-Si:H膜的光电导灵敏性可记录图像信息。目前正在研制中的实际器件有a-Si:H靶摄像管和用a-Si:H作光感受器的静电成像......