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日本激光核聚变研究的现状和发展
【出 处】
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中国激光
【发表日期】
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1979年6期
其他文献
辐照会引起MOS器件电介质氧化物与半导体界面势垒变化，影响其工作性能和可靠性。测量了n型6H-SiC MOS电容辐照105rad(Si)剂量前后的I-V曲线，通过Fowler-Nordheim(F-N)隧道电流拟合，得到了界面势垒的大小，辐照前的为2.596eV，辐照后降为1.492eV。界面势垒变化主要是由辐照产生的界面态引起的。
本文采用简化混合场效应模式,详细推导了45°扭曲液晶光阀的投影光光强的数学公式,给出了各种液晶光阀取向时的假彩色色度曲线;讨论了这种假彩色编码的色度特性,提出了液晶光阀最佳取向的选择原则。并讨论了液晶光阀实时假彩色编码法的调色性和混色现象等。
针对已有单光弹调制器米勒矩阵测量技术缺乏定量误差分析的不足，提出了单光弹调制器米勒矩阵测量误差方程，给出了相对误差分析方法，并结合矩阵条件数得到了降低米勒矩阵各元素最大相对误差的两组1/4波片方位角优化组合。实验结果表明，该两组1/4波片方位角优化组合，测量得到的待测1/4波片米勒矩阵各元素的最大相对误差分别为0.12%和0.20%，相比传统1/4波片方位角优化组合{-90°,-45°,30°,60°}条件下得到的各元素最大相对误差为0.83%，分别降低了85.54%和75.90%。
大阪大学在1972年开设了附属于工学部的激光技术研究设施，致力于高功率激光器的开发，并利用这种激光器进行核聚变的研究。以后，通过学术审议会的咨询,把上述研究设施加以扩充、改组，于1976年5月成立了附属于大阪大学的激光核聚变研究中心，其机能是作为日本的一个惯性约束聚变研究的中心。从1980年起开始了金刚计划，向着得失相当的目标展开工作。
期刊
The thin mirrors are widely used in active optical system. In this letter, magnetic medium assistant polishing (MMAP) technology and device are discussed for thin mirrors optical finishing. The principle of MMAP is introduced, the magnetic tool for polish
提出了利用偏振扫描相机进行激光散斑照相, 研测了物体的二维热形变场。全部动态过程的信息可记录在同一张散斑图上, 且在全场滤波时可连续再现热形变物体的二维变形信息。