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本文结合X荧光光谱讨论半导体材料镍欧姆接触电极的溅射工艺，形成的工艺流程短、效率高，方便获得更好的欧姆接触。
X荧光光谱在溅射工艺研究中的应用
【摘 要】
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本文结合X荧光光谱讨论半导体材料镍欧姆接触电极的溅射工艺，形成的工艺流程短、效率高，方便获得更好的欧姆接触。
【机 构】
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中国电子科技集团公司第四十六研究所
【出 处】
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现代仪器
【发表日期】
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2009年4期
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