双离子束外延实验机分析磁铁设计

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低能离子束外延是近年来材料科学中发展起来的薄膜新技术。双低能离子束外延机是用两束不同质量数的低能离子作用在基片上,可一次生成新的化合物薄膜,对于制备半导体的多层结构和生成某种新材料都是一个理想的工具。本文就该设备主要部件之一—分析磁铁的设计加以介绍。 Low-energy ion beam epitaxy is a new thin film technology developed in material science in recent years. Dual-energy ion beam epitaxy machines use two beams of low-energy ions of different mass numbers to act on the substrate to create a new compound film at one time, which is an ideal tool for preparing the multi-layer structure of semiconductors and generating some new materials. This article describes the design of the analysis magnet, one of the major components of the device.
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