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介绍了一种用于场致发射显示的平面多层膜电子发射结构的制作过程, 采用真空溅射的方法镀制玻璃衬底/Cr-Cu/ Al2O3/ZnS /Ag结构的平面电子源, 对其发射性能进行了论述, 并取得优化发射性能的工艺参数.
平板显示中MISM多层膜电子发射结构的制作
【摘 要】
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介绍了一种用于场致发射显示的平面多层膜电子发射结构的制作过程, 采用真空溅射的方法镀制玻璃衬底/Cr-Cu/ Al2O3/ZnS /Ag结构的平面电子源, 对其发射性能进行了论述, 并取
【机 构】
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福州大学信息科学与技术学院
【出 处】
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福州大学学报(自然科学版)
【发表日期】
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2002年6期
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