掺杂nc—Si：H薄膜中纳米硅晶粒的择优生长

来源 :北京航空航天大学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：chen2591272

【摘要】

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发现PECVD生长的系列掺杂氢化纳米硅(nc-Si:H)薄膜中纳米硅晶粒(nc-Si)有择优生长的趋势.用Raman、XRD、AFM、HRTEM等方法研究其微观结构时发现:掺磷的nc-Si:H薄膜XRD 峰位的

【作者】

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韦文生王天民张春熹李国华

【机构】

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北京航空航天大学理学院,北京航空航天大学宇航学院,中国科学院半导体研究所

【出处】

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北京航空航天大学学报

【发表日期】

：

2003年9期

【关键词】

：

掺杂电场温度择优生长 nc—Si:H薄膜纳米硅晶粒 Atomic force microscopyCrystal growthElectric fiel

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发现PECVD生长的系列掺杂氢化纳米硅(nc-Si:H)薄膜中纳米硅晶粒(nc-Si)有择优生长的趋势.用Raman、XRD、AFM、HRTEM等方法研究其微观结构时发现:掺磷的nc-Si:H薄膜XRD 峰位的二倍衍射角约为33°.掺硼nc-Si:H薄膜的XRD峰位的二倍衍射角约为47°.用自由能密度与序参量的关系结合实验参数分析得到:较高的衬底温度引起序参量改变,使掺磷nc-Si:H薄膜中nc-Si的晶面择优生长.适当的电场作用引起序参量改变,导致掺硼nc-Si:H薄膜在一定的自由能

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