【摘 要】
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为了获得更高性能的TFT-LCD面板,在光刻时保证精细的图形成像十分重要,其中,如何制作出尺寸更小的通孔图形是主要的问题之一。本文提供的研究中,我们只简单地改变了一下烘烤
【机 构】
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为了获得更高性能的TFT-LCD面板,在光刻时保证精细的图形成像十分重要,其中,如何制作出尺寸更小的通孔图形是主要的问题之一。本文提供的研究中,我们只简单地改变了一下烘烤工艺,而不需要改变Eop和显影时间,就可以将通孔图形的尺寸减小20 %~25 %。在后续的刻蚀工艺中,通孔的尺寸能显著减小。
In order to obtain more high-performance TFT-LCD panels, it is very important to ensure fine pattern imaging during lithography. Among them, how to make a through-hole pattern with a smaller size is one of the major problems. In the study presented in this article, we simply changed the baking process to reduce the size of the via pattern by 20% -25% without changing the Eop and development times. Throughout the etching process, the size of the via can be significantly reduced.
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