论文部分内容阅读
对在LiNbO3晶体基片上制作声光可调谐滤波器（AOTF）光刻工艺参数的确定进行了研究．着重研究了匀胶机转速、曝光时间和显影时间对光刻效果的影响．通过大量的实验得到了较好的光刻工艺参数，即在低速2850／8（rpm／s）和高速6000／25（rpm／s）的转速下取得较均匀的光刻胶后，在90℃下前烘30min，再经过10S曝光和10S显影，最后再经过30min的100℃后烘，可得到较好的光刻图样．经过显微镜观察，光刻好的图形表面洁净，侧壁陡直光滑，图形质量较好．