利用激光干涉的方法制备亚微米光栅结构图形衬底

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纳米材料从20世纪80年代开始受到了人们的广泛关注,现已发展了纳米金属材料、纳米半导体薄膜、纳米陶瓷、纳米磁性材料和纳米生物医学材料等.其中纳米半导体薄膜材料的研究对半导体电子学、光子学有着非常重要的意义.图形衬底作为薄膜材料的一个重要分支,在制造半导体和磁性材料中有多方面的潜在的应用价值,在开发新型器件中有着重要作用.图形衬底中最基本的就是光栅结构,由于传统半导体紫外曝光技术受到光的衍射作用限制,不适用于制作亚微米光栅结构图形衬底,所以本人发明了利用激光干涉的方法制备亚微米光栅结构图形衬底.
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