【摘 要】
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溅射镀膜方法是制备ITO透明导电膜最常用也是实验研究最多的方法.实验使用一种不同于溅射方法的另一种制备工艺-低压反应离子镀方法-制备ITO透明导电膜.实验对不同沉积速率和
【机 构】
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中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
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溅射镀膜方法是制备ITO透明导电膜最常用也是实验研究最多的方法.实验使用一种不同于溅射方法的另一种制备工艺-低压反应离子镀方法-制备ITO透明导电膜.实验对不同沉积速率和不同氧气流量对ITO透明导电膜的方块电阻以及光学透过率的影响进行了详细地分析,并综合比较得到了当沉积速率为0.5nm/s,氧气流量为24cm3/min时,在波长为550nm处,方块电阻为20Ω,λ=550nm透过率为90.8%的优质ITO透明导电膜.
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