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采用磁控溅射的方法在钛酸锶钡材料上涂覆金属铜膜。通过试验确定了钛酸锶钡电光材料进行溅射镀厚膜时的工艺参数,并对膜层的表面质量、附着性能和膜均匀性的影响进行了分析,指出了获得优良的厚铜膜层的实现途径和方法。
在钛酸锶钡体材上溅射厚铜膜工艺
【摘 要】
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采用磁控溅射的方法在钛酸锶钡材料上涂覆金属铜膜。通过试验确定了钛酸锶钡电光材料进行溅射镀厚膜时的工艺参数,并对膜层的表面质量、附着性能和膜均匀性的影响进行了分析,
【机 构】
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中国电子科技集团公司第38研究所,河北科技大厦后勤集团
【出 处】
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新技术新工艺
【发表日期】
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2008年06期
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