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尼康精机（Nikon Precision）近日宣布，台湾力晶半导体己选用其NSR-S610C ArF浸没式扫描光刻机装备该公司在台湾新竹的300mm晶圆厂，用于50nm NAND闪存制造。
助力50nm NAND闪存生产力晶选用Nikon新款浸没式扫描光刻机
【摘 要】
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尼康精机（Nikon Precision）近日宣布，台湾力晶半导体己选用其NSR-S610C ArF浸没式扫描光刻机装备该公司在台湾新竹的300mm晶圆厂，用于50nm NAND闪存制造。
【出 处】
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电子工业专用设备
【发表日期】
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2007年1期
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