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研究了硫酸锌、添加剂和pH值时镀层沉积速率及镀层腐蚀电位的影响。测试了镀层在质量分数为3.5%的NaCl溶液中的Tafel曲线;用电化学阻抗实验对镀层的耐蚀性进行了测试。研究结果表明:镀层在质量分数为3.5%的NaCI溶液中,相对甘汞电极的腐蚀电势为-0.6009V,比化学镀Ni—P合金镀层的腐蚀电势-0.343V低258mV。