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RBS,AES,XPS分析结果证实:在有微量氧存在的氮气中,Ti/SiO2(薄)Si体系不同温度下退火过程均无TiN生成;随退火温度升高,该体系形成的TiSi2层;Ti氧化物层不断变薄,并伴有SiO2在表面层重新出现。通过△G的计算,热力学证明反应2TiO+5Si+2TiSi2+SiO2能够发生,并以此解释了退火中各层的变化规律。