【摘 要】
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为提高光刻仿真效率，通过对光刻原理进行研究，提出了2种多边形处理算法，将掩模上的多边形图案进行切分优化，将其划分成若干矩形或三角形。在Linux环境下应用C语言设计出一个完整
【机 构】
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浙江大学超大规模集成电路设计研究所
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为提高光刻仿真效率，通过对光刻原理进行研究，提出了2种多边形处理算法，将掩模上的多边形图案进行切分优化，将其划分成若干矩形或三角形。在Linux环境下应用C语言设计出一个完整的光刻仿真系统，设计的具体光学参数为：光源波长为193nm，数值孔径为0．3—0．8，部分相干系数可调范围为0．2～0．8，可一次性仿真1斗m×1μm到10μm×10μm范围内的45nm-0．18μm工艺的复杂版图，并通过多次实验进行验证。实验结果表明：原版图图像的边缘细节得到保留，且该算法有效地减少了光刻模拟的计
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