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对于交流磁控溅射氧化锌铝陶瓷靶材制备ZAO薄膜,研究了氧流量、基体温度、靶电流密度、铝的掺杂量、本底真空压力和工作气体压力对ZAO薄膜电学性能的影响规律,优化了工艺参数,为工业化生产提供了实验依据.
交流磁控溅射制备ZAO薄膜工艺参数的研究
【摘 要】
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对于交流磁控溅射氧化锌铝陶瓷靶材制备ZAO薄膜,研究了氧流量、基体温度、靶电流密度、铝的掺杂量、本底真空压力和工作气体压力对ZAO薄膜电学性能的影响规律,优化了工艺参数
【机 构】
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中兴通讯股份有限公司,清华大学,清华大学
【出 处】
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材料科学与工艺
【发表日期】
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2005年6期
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