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通过表面摩擦、施加外电场(或磁场)和应力剪切等手段使液晶单体取向后进行光聚合反应是制备高度取向、高度均匀和高度透明高分子液晶膜的重要方法。它在高分子非线性光学材料、导电商分子材料和光纤涂层等领域中具有广泛的应用前景。
预取向液晶单体光聚合反应
【摘 要】
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通过表面摩擦、施加外电场(或磁场)和应力剪切等手段使液晶单体取向后进行光聚合反应是制备高度取向、高度均匀和高度透明高分子液晶膜的重要方法。它在高分子非线性光学材料
【机 构】
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机械电子工业部上海材料研究所,机械电子工业部上海材料研究所上海200082,上海200082
【出 处】
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高分子通报
【发表日期】
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1993年4期
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