集成电路多层结构中的化学机械抛光技术

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化学机械抛光技术(CMP)已成功地应用于集成电路多层结构中介质层和金属层的全局平面化。这是唯一能对亚微米级器件提供全局平面化的技术,对0.35μm及以下的器件工艺是绝对必须的。CMP面临的问题主要是难以维持高效的、稳定的、一次通过性的生产运转。
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