【摘 要】
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基于氧对荧光的淬灭作用,由荧光探针和高分子基质组成的氧压敏感涂料（PSP）,是用于风洞测量空气动力学模型表面空气压力分布的新型压力传感器.研究荧光探针和高分子基质对PSP压
【机 构】
：
武汉工程大学材料科学与工程学院,中国科学院化学研究所
【基金项目】
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国家自然科学基金（51003080）, 湖北省青年科技晨光计划（2014.5）, 武汉市应用基础研究（2015010101010018）, 武汉市软科学研究计划（2015040606010250）致谢 感谢国家自然科学基金委员会、武汉工程大学对本研究的资助!
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基于氧对荧光的淬灭作用,由荧光探针和高分子基质组成的氧压敏感涂料（PSP）,是用于风洞测量空气动力学模型表面空气压力分布的新型压力传感器.研究荧光探针和高分子基质对PSP压力灵敏度的影响,可以为提高压力传感器的测量精度提供向导.实验将聚甲基苯基硅氧烷、三氟氯乙烯-醋酸乙烯酯、聚二甲基硅氧烷和聚甲基氟丙基硅氧烷分别与芘丁酸（PYB）和N,N,N’,N’-四甲苯基联苯胺（TBD）两种荧光探针共混,观察其荧光发射的氧猝灭作用.结果表明,PYB在上述聚合物中的氧猝灭灵敏度和响应时间随聚合物的透氧性而变化,属于扩散
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ue＊M＃’＃dkB4＃＃8＃”专利申请号:00109“7公开号:1278062申请日:00.06.23公开日:00.12.27申请人地址:（100084川C京市海淀区清华园申请人:清华大学发明人:隋森芳文摘:本发明属于生物技
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