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为提高石英玻璃表面金属化膜层与基底的结合强度,利用金属蒸发真空弧(MEVVA)离子源引出的Ti离子对石英玻璃及镀Ti膜石英玻璃进行离子注入,剂量选择3×10^16,5×10^16ion/cm^2,模拟分析了注入离子能量的分布,采用卢瑟福背散射分析了注入Ti离子在基体中的深度分布,利用划痕实验机对比了镀Ti膜石英玻璃经Ti离子注入前后的膜基结合强度。实验结果表明:石英玻璃经Ti离子(5×10^16ion/cm^2)注入后,钛在基体中呈高斯分布,最大浓度分布在15~35nm范围内