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<正> 简介 氯酸钠/盐酸型蚀刻铜再生剂适合于生产多层板的内层和塞孔与湿膜正片流程的印制-蚀刻板,所采用的抗蚀剂是网印抗蚀油墨或干膜抗蚀剂及液态光致抗蚀油墨、金等,不适合于锡-铅合金及纯锡抗蚀剂。其特点是蚀刻速率容易控制、侧蚀小、容铜量大、易再生和回收,减少污染,蚀铜液在稳定状态(包括工艺参
氯酸钠／盐酸盐蚀刻铜再生剂之论述
【摘 要】
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<正> 简介 氯酸钠/盐酸型蚀刻铜再生剂适合于生产多层板的内层和塞孔与湿膜正片流程的印制-蚀刻板,所采用的抗蚀剂是网印抗蚀油墨或干膜抗蚀剂及液态光致抗蚀油墨、金等,不适
【机 构】
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深圳市艾克化工开发部
【出 处】
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印制电路信息
【发表日期】
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2002年3期
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