【摘 要】
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本文介绍一种只用高频产生等离子体的氮化方法(简称高频离子氮化法)。找出比较合适的氮-氢气体比例及合适气压、温度的氮化工艺参数。获得高的表面硬度(HV 1575左右)和较厚的
【机 构】
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广西大学,日本东京工业大学 副教授南宁市530004
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本文介绍一种只用高频产生等离子体的氮化方法(简称高频离子氮化法)。找出比较合适的氮-氢气体比例及合适气压、温度的氮化工艺参数。获得高的表面硬度(HV 1575左右)和较厚的氮化层(85μm)。初步分析了影响氮化层性质的一些因素。
This article describes a high-frequency plasma generated only nitride method (referred to as high-frequency ion nitriding method). Find out the more appropriate nitrogen - hydrogen gas ratio and the appropriate pressure, temperature nitriding process parameters. High surface hardness (around HV 1575) and a thick nitride layer (85 μm) were obtained. A preliminary analysis of some of the factors that affect the nature of the nitride layer.
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