用Gd_2O_3做介质缓冲层制作金属包覆光波导偏振器

来源 :国防科技大学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:yu830329
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首次报道了采用Gd2O3薄膜作介质缓冲层制作金属包覆Ti:LiNbO3光波导偏振器,通过对理论模型的计算取合适的介质缓冲层厚度,给出了理论和实验结果,测试结果表明,我们实际制作的Gd2O3/Al包覆Ti:LiNbO3偏振器的偏消光比〉35dB。
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