【摘 要】
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KLA-Tencor 公司推出其领先业界的最新版计算光刻机 PROLITH 11。这种新型光刻机让用户首次得以评估当前的二次成像方案，并以较低的成本针对光刻在设计、材料与制程开发等方面挑战，尝试不同的解决方案。这种新型计算光刻机还支持单次成像和浸没技术。 二次成像光刻 (DPL) 是通过将图案分为两个交错图案来构建先进设备之微小部件的一种方法。这表示，一个双光罩组及新的光阻材料对于 DPL 层必
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KLA-Tencor 公司推出其领先业界的最新版计算光刻机 PROLITH 11。这种新型光刻机让用户首次得以评估当前的二次成像方案，并以较低的成本针对光刻在设计、材料与制程开发等方面挑战，尝试不同的解决方案。这种新型计算光刻机还支持单次成像和浸没技术。
二次成像光刻 (DPL) 是通过将图案分为两个交错图案来构建先进设备之微小部件的一种方法。这表示，一个双光罩组及新的光阻材料对于 DPL 层必不可少，这会增加制程的复杂性及成本。据专家预计，在 32nm节点的一个光罩组价格超过400万美元，这强烈促使晶片厂要彻底衡量和评估一个二次成像、双光罩、双光阻策略将如何在自然制程条件范围下在晶片上冲印，以确保光罩设计、材料和制程参数在第一次就正确无误。
PROLITH 11 让工程师能够以前所未有的精确性来制作这种复杂系统的模型，然后通过考察在光罩设计、光阻属性和扫描曝光机或所印图案上的参数中或大或小的变化对二次成像影响，使用该模型对系统进行优化。使用 PROLITH 11，晶片厂可避免在产品晶片上进行耗时与昂贵实验的必要，这些实验会耽误进入市场的时间，并造成成千上万个报废的加工晶片。
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