“大面积高光学质量金刚石膜制备、加工及应用”关键技术研究进展

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【摘要】

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<正> 采用具有我国独立知识产权的磁控/流体动力学控制大口径长通道等离子体炬技术(中国发明专利)建造的100kW级高功率DC Arc Plasma Jet CVD膜沉积系统(在气体循环条件下工

【作者】

：

吕反修唐伟忠

【机构】

：

北京科技大学材料学院

【出处】

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材料导报

【发表日期】

：

2001年2期

【关键词】

：

金刚石薄膜 CVD 制备工艺加工应用化学气相沉积

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<正> 采用具有我国独立知识产权的磁控/流体动力学控制大口径长通道等离子体炬技术(中国发明专利)建造的100kW级高功率DC Arc Plasma Jet CVD膜沉积系统(在气体循环条件下工作)和10kW级DC Arc Plasma Jet CVD装置成功地制备了高光学质量(光学级透明)大面积金刚石自支撑膜。在气体循环条件下制备的金刚石自支撑膜最大面积φ100mm,最大厚度～2mm。其中光学级透明金刚石膜最大直径φ60mm,厚度～0.6mm。在气体不循环状态(Blow down mode,1

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