【摘 要】
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本文报道了钽(Ta)场发射尖端的制作方法和场发射特性的实验结果。并与单晶钨(W〔111〕)比较,发现Ta的场发射特性不仅与W〔111〕很相似,而且还别具自己特点。特别是能在6.6×1
【机 构】
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云南大学物理系,云南大学物理系,云南大学物理系
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本文报道了钽(Ta)场发射尖端的制作方法和场发射特性的实验结果。并与单晶钨(W〔111〕)比较,发现Ta的场发射特性不仅与W〔111〕很相似,而且还别具自己特点。特别是能在6.6×10~(-8)帕(5×10~(-8)托)较低真空下稳定的工作。表明Ta可望成为一种较理想的场发射材料,具有广泛应用和开发前景。
This paper reports the fabrication of the tantalum (Ta) field emission tip and the experimental results of field emission characteristics. Compared with single crystal tungsten (W [111]), the field emission characteristics of Ta are not only similar to W [111], but also have their own characteristics. In particular, 6.6 × 10 ~ (-8) Pa (5 × 10 -8 Torr) lower vacuum stable work. That Ta is expected to become a more ideal field emission materials, with a wide range of applications and development prospects.
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