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本文综述了脉冲激光沉积（PLD）薄膜技术的机理、特点及薄膜生长的主要过程，并介绍了其在制备半导体、高温超导、类金刚石、生物陶瓷薄膜等方面的应用。大量研究表明．脉冲激光沉积技术是目前最好的制备薄膜的方法之一。
脉冲激光沉积PLD技术及其应用
【摘 要】
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本文综述了脉冲激光沉积（PLD）薄膜技术的机理、特点及薄膜生长的主要过程，并介绍了其在制备半导体、高温超导、类金刚石、生物陶瓷薄膜等方面的应用。大量研究表明．脉冲激光沉积
【机 构】
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华东交通大学基础学院物理系
【出 处】
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科技广场
【发表日期】
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2009年5期
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