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全球领先的半导体制造晶圆工艺、清洗和表面处理设备供应商FSI国际有限公司，近日在其再次于上海举办的“FSI知识服务系列研讨会”上，宣布推出全新的ORION。单晶圆清洗系统。该系统特有的闭室设计可实现对晶圆环境的完全控制和维护，满足32nm；
FSI国际在上海宣布推出ORION~单晶圆清洗系统
【摘 要】
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全球领先的半导体制造晶圆工艺、清洗和表面处理设备供应商FSI国际有限公司，近日在其再次于上海举办的“FSI知识服务系列研讨会”上，宣布推出全新的ORION。单晶圆清洗系统。该
【机 构】
：
《电子与封装》通讯员
【出 处】
：
电子工业专用设备
【发表日期】
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2008年11期
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