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在制药设备上使用了化学镀Ni-P工艺。给出了2种工艺流程并确定了镀液配方。研究了温度、前处理对施镀的影响。结果表明，最佳施镀温度为[（85～90）±2]℃，镀件冲击镀镍及镀液磁化均可取得良好的效果。该方法得到的镀层结构致密、孔隙率低、耐蚀性强、结合力好、硬度高。
化学镀Ni-P工艺在制药设备上的应用
【摘 要】
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在制药设备上使用了化学镀Ni-P工艺。给出了2种工艺流程并确定了镀液配方。研究了温度、前处理对施镀的影响。结果表明，最佳施镀温度为[（85～90）±2]℃，镀件冲击镀镍及镀液磁化
【机 构】
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吉林航空维修有限公司工艺技术研究所
【出 处】
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电镀与涂饰
【发表日期】
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2006年7期
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