中芯国际0.11微米制程缩小31%面积

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中芯国际集成电路制造有限公司于3月9日宣布,其0.11微米后段铜制程(Cu-BEoL)超高密度IP库解决方案可为客户平均节省31%芯片面积。中芯国际此次发布的超高密度IP库解决方案,与传统IP库相比,可使客户 Semiconductor Manufacturing International Corporation announced on March 9 that its 0.11-micron Cu-BEoL ultra-high-density IP library solution will save customers an average of 31% of the chip area. SMIC released this ultra-high density IP library solution, compared with the traditional IP library, enabling customers
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