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种子层厚度对以NiFeNb为新种子层的坡莫合金薄膜的零场电阻率和AMR的影响
种子层厚度对以NiFeNb为新种子层的坡莫合金薄膜的零场电阻率和AMR的影响
来源 :功能材料 | 被引量 : 0次 | 上传用户:lifazhan197809
【摘 要】
:
制备了(Ni82Fe18)72.9Nb27.1(dnm)/Ni82Fe18(3nm)/Ta(3nm)坡莫合金系列膜.测量了样品零场电阻率(ρ),各向异性磁电阻(AMR)和微结构.研究了ρ和AMR随种子层厚度(d)的变化.探讨
【作 者】
:
刘俊
郑瑞伦
段昌奎
代波
【机 构】
:
重庆邮电学院,西南师范大学,重庆邮电学院,中国科学院物理所国家磁性重点实验室
【出 处】
:
功能材料
【发表日期】
:
2004年6期
【关键词】
:
新种子层
零场电阻率
AMR
Electric conductivity of solids
Magnetoresistance
Metallic films
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制备了(Ni82Fe18)72.9Nb27.1(dnm)/Ni82Fe18(3nm)/Ta(3nm)坡莫合金系列膜.测量了样品零场电阻率(ρ),各向异性磁电阻(AMR)和微结构.研究了ρ和AMR随种子层厚度(d)的变化.探讨了d 影响ρ和AMR的微观机理.
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